PLASSYS微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD

型号：SSDR150， 产地：欧洲

腔体：铝合金腔体，内含石英管反应室；可以长时间满功率运行。

微波发生源：频率为2.45GHz、功率为6KW，LCD数显微波入射和反射功率。

4条气路：分别为氢气、甲烷、氧气、氮气

             可以增加额外3条气路、可以选择气体（B、N、P）或液体（P）掺杂。

样品台： 水冷，可以容纳2英寸衬底；

            生长金刚石过程中，样品台可以上下实时精密调节。

            设备设计非常适合用于厚单晶生长，例如一次性生长2mm。

测温系统：采用双色高温计，测温范围为：475°C–1475°C；

              观察口大小：1cm，辅以激光束观察测温位置。

真空系统：干泵抽气速率为35 m3/h，分子泵抽气速率为300 l/s；

              系统极限真空度＜3×10-7mbar。

可以选配： 光谱仪，样品台旋转功能，微波发生源脉冲模式，3-4英寸样品台