等离子刻蚀ICP
tel: 400-6699-117 转 1000Trion半导体专用检测仪器设备, 可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。
咨询留言
产品型号: Minilock-Phantom III ICP
品牌:Trion
产品产地:美国
产品类型:进口
原制造商:Trion
状态:在售
厂商指导价格:未提供
上市时间: 2013-10-11
英文名称: Minilock-Phantom III ICP
优点:可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除光刻胶和有机材料。可选配静电吸盘(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。
参考成交价格: 50~100万元[人民币]
仪器导购
半导体专用检测仪器设备
其他推荐
厂家资料
地址:香港九龍尖沙咀漆咸道南45-51號其士大廈803室
电话:400-6699-117 转 1000
经销商
除厂家/中国总经销商外,我们找不到 等离子刻蚀ICP 的一般经销商信息,有可能该产品在中国没有其它经销商。
如果您是,请告诉我们,我们的邮件地址是:sales@antpedia.net 请说明: 1.产品名称 2.公司介绍 3.联系方式 |
评论
我来点评售后服务
登记我会维修/培训/做方法
如果您是一名工程师或者专业维修科学 仪器的服务商,都可参与登记,我们的平台 会为您的服务精确的定位并展示。
产品调查
查看标准
- GB/T 28276-2012 硅基MEMS制造技术.体硅溶片工艺规范
- GB/T 39560.1-2020 电子电气产品中某些物质的测定 第1部分:介绍和概述
- GB/T 39560.1-2020 GB_T 39560.1-2020
- GB/T 26111-2010 微机电系统(MEMS)技术 术语
- GB/T 26111-2010 微机电系统(MEMS)技术 术语
- GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
- GB/T 24582-2009 酸浸取.电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
- GB/T 31854-2015 光伏电池用硅材料中金属杂质含量的电感耦合等离子体质谱测量方法
- GB/T 30815-2014 表面化学分析 分析样品的制备和安装方法指南
- GB/T 21287-2007 电子工业用气体.三氟化氮