日本电子电子束刻蚀, 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。