SJ 1794-1981
半导体器件生产用扩散炉.通用技术条件

General specification for diffusion furnace for semiconductor device manufacturing


SJ 1794-1981 中,可能用到以下仪器

 

ChemTron BLR 气体冷干机 / 气体快速冷却恒温系统

ChemTron BLR 气体冷干机 / 气体快速冷却恒温系统

优莱博技术(北京)有限公司

 

SJ 1794-1981



标准号
SJ 1794-1981
发布
1981年
发布单位
行业标准-电子
当前最新
SJ 1794-1981
 
 

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