JB/T 6922-1993
真空蒸发镀膜设备
Vacuum evaporation coating equipment
JBT6922-1993, JB6922-1993
2005-04
- 标准号
- JB/T 6922-1993
- 别名
- JBT6922-1993, JB6922-1993
- 发布
- 1993年
- 发布单位
- 行业标准-机械
- 替代标准
- JB/T 6922-2004
- 当前最新
- JB/T 6922-2015
JB/T 6922-1993相似标准
推荐
为什么溅射原子的能量大于蒸发原子的许多倍
溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。...
高真空蒸发镀膜仪的设计让其操作更容易实现
3、涡轮分子泵安装在系统外部，高真空蒸发镀膜仪可以轻松安装和更换。它的前真空是旋转真空泵。整个泵送过程是全自动控制的，达到高真空后会蒸发。该仪器是台式的，使用中的疏忽很容易控制并且容易损坏。...
爪型干式真空泵的应用
医药行业： 结晶、蒸馏、升华、干燥、脱臭、聚合、真空蒸发、负压过滤、单体回收、吸附/脱附、物料输送腐、蚀性介质、环氧乙烷消毒等。 食品行业：升华、干燥、脱水、真空蒸发、真空保鲜、真空包装等。 科研院所：旋蒸、蒸馏、精馏、聚合、负压抽滤、真空干燥、中试装置、风洞试验、真空环境模拟等。 电子光伏：浸渍、真空镀膜、离子刻蚀、分子束外延等。 ...