T/XAI 16-2023
覆晶薄膜基板掩膜版图纸设计规范

The specification for mask drawing design of COF tape

覆晶薄膜基板掩膜版图纸设计规范 是非强制性国家标准，您可以免费下载预览页

高级搜索

T/XAI 16-2023 发布历史

T/XAI 16-2023由中国团体标准 CN-TUANTI 发布于 2023-08-01，并于 2023-08-01 实施。

T/XAI 16-2023在国际标准分类中归属于: 01.100.25 电气和电子工程制图。

T/XAI 16-2023的历代版本如下：

2023年 T/XAI 16-2023 覆晶薄膜基板掩膜版图纸设计规范

1　范围、2　规范性引用文件、3　术语和定义、4　设计要求、5　证实方法。

标准号: T/XAI 16-2023
发布: 2023年
发布单位: 中国团体标准
当前最新: T/XAI 16-2023

T/XAI 16-2023相似标准

T/XAI 14-2023 覆晶薄膜基板图纸设计规范 T/XAI 15-2023 覆晶薄膜基板阻焊图形设计规范 GB 51037-2014 微组装生产线工艺设备安装工程施工及验收规范 SJ/T 10152-1991 集成电路主要工艺设备术语 T/XAI 17-2023 覆晶薄膜基板电气测试用焊盘设计规范

推荐

光刻机怎么制作

第一步：制作光刻掩膜版（Mask Reticle）芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后，就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上，供批量生产了。这一步骤就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版：（又称光罩，简称掩膜版），是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。...

【干货】全面盘点半导体材料产业链全貌

掩膜版掩膜版通常也被称为光罩、光掩膜、光刻掩膜版，是半导体芯片光刻过程中的设计图形的载体，通过光刻和刻蚀，实现图形到硅晶圆片上的转移。湿电子化学品湿电子化学品，也通常被称为超净高纯试剂，是指用在半导体制造过程中的各种高纯化学试剂。电子特气电子特气是指在半导体芯片制备过程中需要使用到的各种特种气体，按照气体的化学成分可以分为通用气体和特种气体。...

T/XAI 16-2023覆晶薄膜基板掩膜版图纸设计规范