ASTM F2113-01(2007)
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

ASTM F2113-01(2007) 发布历史

ASTM F2113-01(2007)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2007-06-01。

ASTM F2113-01(2007)在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

ASTM F2113-01(2007)的历代版本如下：

• 2001年06月10日 ASTM F2113-01 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
• 2007年06月01日 ASTM F2113-01(2007) 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
• 2001年06月10日 ASTM F2113-01e1 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
• 2001年 ASTM F2113-2001 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
• 2001年 ASTM F2113-2001(2007) 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
• 2001年 ASTM F2113-2001(2011) 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南
• 2001年 ASTM F2113-2001e1 薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南

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标准号

ASTM F2113-01(2007)

发布日期

2007年06月01日

实施日期

废止日期

无

国际标准分类号

29.045

发布单位

US-ASTM