ASTM F2113-01(2007)
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

被代替

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标准号: ASTM F2113-01(2007)
发布: 2007年
发布单位: 美国材料与试验协会
替代标准: ASTM F2113-01(2011)
当前最新: ASTM F2113-01(2011)

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