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图24 气液固(VLS)方法制备的碲化铋纳米带及其不同温度下的电流-电压曲线,溶剂热法制备的铜掺杂硒化锡微米带及其不同施加应力下的电流-电压曲线,硼纳米带的实测塞贝克系数,氧化铟/氧化锌复合型微米带及其实测功率因子,模板法生长的硒化锡微米带及以其为原材料进行烧结得到的多晶块体的热电性能,水热法合成的硫化锡微米带及以其为原材料制备的无机-有机复合柔性薄膜的热电性能,以及锑掺杂氧化锌单根微米带组成的微型热电器件...
该生产线采用的工艺路线是将铟锡合金材料利用直流磁控溅射的原理沉积到基片的表面,并进行高温氧化处理,将铟锡合金薄膜转换成所需的ITO薄膜。这种生产线的特点是设备的产能较低,质量较差,工艺调节复杂。 90年代中期,随着国内LCD产业的发展,对ITO产品的需求量增大的同时,对产品的质量有了新的要求,因此出现了第二代ITO镀膜生产线。...
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