BS ISO 14706:2000
表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

被代替

非常抱歉，我们暂时无法提供预览，您可以试试： 免费下载 BS ISO 14706:2000 前三页，或者稍后再访问。

您也可以尝试购买此标准，
点击右侧 “购买” 按钮开始采购（由第三方提供）。

注意： 点击下载后，生成下载文件时间比较长，请耐心等待......

标准号

BS ISO 14706:2000

发布

2001年

发布单位

英国标准学会

替代标准

BS ISO 14706:2014

BS ISO 14706:2001

当前最新

BS ISO 14706:2014

 

 

被代替标准

99/122512 DC:1999

适用范围

本国际标准规定了测量化学机械抛光或外延硅片表面元素污染原子表面密度的 TXRF 方法。该方法适用于： ——原子序数为16（S）至92（U）的元素； ——原子表面密度为 1 × 10 个原子/cm 至 1 × 10 个原子/cm 的污染元素； — 使用 VPD（气相分解）样品制备方法（见 3.4），原子表面密度为 5 × 10 个原子/cm 至 5 × 10 个原子/cm 的污染元素。

BS ISO 14706:2000相似标准

推荐