ASTM F1404-92(2007)
用熔融氢氧化钾腐蚀技术测试砷化镓结晶完整性的标准试验方法

Test Method for Crystallographic Perfection of Gallium Arsenide by Molten Potassium Hydroxide (KOH) Etch Technique


标准号
ASTM F1404-92(2007)
发布
1992年
发布单位
美国材料与试验协会
当前最新
ASTM F1404-92(2007)
 
 
引用标准
ASTM D1125 ASTM E177 ASTM F26 ASTM F47
适用范围
将砷化镓用于半导体器件需要一致的原子晶格结构。然而,各种类型和数量的晶格或晶体线缺陷总是存在,并且很少均匀分布。确定蚀坑密度的平均值和空间分布非常重要。
1.1 本测试方法用于确定砷化镓锭或晶片是否为单晶,如果是单晶,则测量蚀坑密度并判断晶体缺陷的本质。在可能的情况下,它遵循相应的硅测试方法,即测试方法 F 47。测试方法 F 47 还给出了适用于该测试方法的许多晶体学术语的定义。
1.2 本程序适用于蚀坑密度在 0 至 200 000/cm2 之间的砷化镓晶体。
1.3 砷化镓,无论是掺杂的还是未掺杂的,以及具有各种电性能的砷化镓,都可以通过本测试方法进行评估。样品的前表面法线方向必须与±范围内的<001>平行。 5°并且必须通过抛光或蚀刻或两者进行适当准备。未去除的加工损伤可能会导致蚀刻坑,从而影响块状晶体的质量。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题(如果有)。本标准的使用者有责任建立适当的安全和健康实践,并在使用前确定监管限制的适用性。具体危险说明见第 8 节。

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