ASTM E684-04
固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
Standard Practice for Approximate Determination of Current Density of Large-Diameter Ion Beams for Sputter Depth Profiling of Solid Surfaces
2012-01
- 标准号
- ASTM E684-04
- 发布
- 2004年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM E684-04
- 引用标准
- ASTM E1127 ASTM E1577 ASTM E673
- 代替标准
- E1577
- 适用范围
- 溅射深度分析与俄歇电子能谱、X 射线光电子能谱、离子散射能谱和二次离子质谱联用，可确定化学成分和原子浓度随距样品表面距离的变化。请参阅指南 E 1127。必须指定用于溅射的离子束的直径，如果没有合适的法拉第杯，这种做法是测量离子束形状（即电流密度分布）的相对快速的方法。 3 1.1 本实践描述了一种确定离子束形状和电流密度的简单且近似的方法。该实践仅限于直径大于 0.5 毫米的离子束，用于溅射固体表面以获得溅射深度分布。假设离子束电流密度关于束轴对称。
1.2 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。
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