ASTM E1127-03
螺旋电子光谱法的深度剖面的标准指南
Standard Guide for Depth Profiling in Auger Electron Spectroscopy
- 标准号
- ASTM E1127-03
- 发布
- 2003年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E1127-08
- 当前最新
- ASTM E1127-08(2015)
- 引用标准
- ASTM E1634 ASTM E673 ASTM E684 ASTM E827
- 适用范围
- 俄歇电子能谱产生有关近表面区域固体表面的化学和物理状态的信息。无损深度剖析仅限于该近地表区域。 (35) 中给出了测量凹坑深度和薄膜厚度的技术。离子溅射主要用于深度小于 1 µm 的情况。角度研磨或机械凹坑主要用于深度大于 1 米的量级。用于研究界面的深度分析方法的选择取决于表面粗糙度、界面粗糙度和薄膜厚度 (1)。3 1.1 本指南涵盖俄歇电子能谱中用于深度分析的程序。
1.2 以下给出了深度分析指南：截面离子溅射 6 角度研磨和横截面 7 机械缩孔 8 无损深度分析 91.3 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。
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