ASTM F1621-96
测定表面扫描检验系统(SSIS)的定位精度能力的标准规程

Standard Practice for Determining the Positional Accuracy Capabilities of a Scanning Surface Inspection System

作废

ASTM F1621-96 发布历史

ASTM F1621-96由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 1996，于 2003-05-10 废止。

ASTM F1621-96 在中国标准分类中归属于: N47 缩微复印机械，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

ASTM F1621-96 测定表面扫描检验系统(SSIS)的定位精度能力的标准规程的最新版本是哪一版？

最新版本是 ASTM F1621-96 。

ASTM F1621-96 发布之时，引用了标准

• ASTM E691 为测定试验方法精密度开展的实验室间的研究*， 1999-05-14 更新
• ASTM F1241 ASTM F1241-95(2000)
• ASTM F1618 测定硅片薄膜均匀性的标准规程
• ASTM F1620 使用单分散聚苯乙烯乳胶球沉积在抛光或外延片表面的方法校准表面扫描检验系统的标准规范

* 在 ASTM F1621-96 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

ASTM F1621-96的历代版本如下：

• 1996年 ASTM F1621-96 测定表面扫描检验系统(SSIS)的定位精度能力的标准规程

该标准已于 20031 年 5 月转移至 SEMI (www.semi.org)。1 该实践涵盖了扫描表面检测系统 (SSIS) 报告硅晶圆表面上局部光散射体位置的准确性的确定。注 1 - 这种做法主要是为了与基于激光的 SSIS 一起使用而开发的。尽管它也可能适用于确定其他类型 SSIS 的位置精度能力，但这种实践扩展可能有效的条件尚未确定。

1.2 该实践包括分离晶圆处理和晶圆方向对所报告位置的精度和偏差的影响的程序。

1.3 该程序必须在位于 M2.5 级（10 级）或联邦标准 209E 中定义的更好环境中的 SSIS 上执行。

1.4 这种做法依赖于制造的硅参考晶圆，该晶圆在其抛光（前）表面上包含多个蚀刻特征场的规定图案。

1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

标准号

ASTM F1621-96

发布

1996年

发布单位

美国材料与试验协会

当前最新

ASTM F1621-96

 

 

引用标准

ASTM E691 ASTM F1241 ASTM F1618 ASTM F1620

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