GB/T 14849.4-2008
工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量
Methods for chemical analysis of silicon metal.Part 4: Determination of elements content.Inductively coupled plasma atomic emission specrometric method
- 标准号
- GB/T 14849.4-2008
- 发布日期
- 2008年06月09日
- 实施日期
- 2008年12月01日
- 废止日期
- 2015-08-01
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 77.120.10
- 发布单位
- CN-GB
- 代替标准
- GB/T 14849.4-2014
- 适用范围
- 本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛锰、镍含量的测定，测定范围见表1。
GB/T 14849.4-2008系列标准
GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分：铁含量的测定
GB/T 14849.10-2016 工业硅化学分析方法 第10部分:汞含量的测定 原子荧光光谱法
GB/T 14849.11-2016 工业硅化学分析方法 第11部分:铬含量的测定 二苯碳酰二肼分光光度法
GB/T 14849.2-2007 工业硅化学分析方法 第2部分：铝含量的测定 铬天青-S分光光度法
GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分：钙含量的测定
GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
GB/T 14849.5-2014 工业硅化学分析方法 第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法
GB/T 14849.6-2014 工业硅化学分析方法 第6部分:碳含量的测定 红外吸收法
GB/T 14849.7-2015 工业硅化学分析方法 第7部分:磷含量的测定 磷钼蓝分光光度法
GB/T 14849.8-2015 工业硅化学分析方法 第8部分:铜含量的测定 原子吸收光谱法
GB/T 14849.9-2015 工业硅化学分析方法 第9部分:钛含量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法