ASTM E827-08
对奥格电子光谱法的基本识别方法
Standard Practice for Identifying Elements by the Peaks in Auger Electron Spectroscopy
说明：
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- 标准号
- ASTM E827-08
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM E827-08
- 引用标准
- ASTM E1523 ASTM E673 ASTM E983 ASTM E984
- 俄歇分析用于确定样品表面前几个原子层（通常厚度为 1 至 5 nm）的元素组成。与惰性气体离子溅射结合，它用于确定几微米深度的溅射深度分布。样品通常是固体导体、半导体或绝缘体。对于绝缘体，可能需要采取措施来控制表面的电荷积累（参见指南 E 1523）。典型应用包括分析金属或合金基材上的表面污染物、薄膜沉积物或隔离覆盖层。样品的形貌可能会有所不同，从光滑、抛光...