ASTM E827-08
对奥格电子光谱法的基本识别方法
Standard Practice for Identifying Elements by the Peaks in Auger Electron Spectroscopy
- 标准号
- ASTM E827-08
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM E827-08
- 引用标准
- ASTM E1523 ASTM E673 ASTM E983 ASTM E984
- 适用范围
- 俄歇分析用于确定样品表面前几个原子层（通常厚度为 1 至 5 nm）的元素组成。与惰性气体离子溅射结合，它用于确定几微米深度的溅射深度分布。样品通常是固体导体、半导体或绝缘体。对于绝缘体，可能需要采取措施来控制表面的电荷积累（参见指南 E 1523）。典型应用包括分析金属或合金基材上的表面污染物、薄膜沉积物或隔离覆盖层。样品的形貌可能会有所不同，从光滑、抛光的样品到粗糙的断裂表面。对具有在俄歇室超高真空环境中蒸发的挥发性物质的样品以及易受电子或 X 射线束损伤的物质（例如有机化合物）的俄歇分析可能需要本文未涵盖的特殊技术。 （参见指南 E 983。） 1.1 本实践概述了使用传统电子能谱仪获得的给定俄歇光谱中识别元素的必要步骤。考虑显示为电子能量分布（直接光谱）或电子能量分布的一阶导数的光谱。
1.2 本实践适用于通过电子或 X 射线轰击样品表面产生的俄歇光谱，并且可以扩展到通过其他方法（例如离子轰击）产生的光谱。
1.3 以 SI 单位表示的值应被视为标准值。本标准不包含其他计量单位。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。