ASTM E1127-08
俄歇电子能谱学中的深度压形的标准指南

Standard Guide for Depth Profiling in Auger Electron Spectroscopy


 

 

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标准号
ASTM E1127-08
发布
2008年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E1127-08(2015)
当前最新
ASTM E1127-08(2015)
 
 
适用范围
俄歇电子能谱产生有关近表面区域固体表面的化学和物理状态的信息。无损深度剖析仅限于该近地表区域。 (1) 中给出了测量凹坑深度和薄膜厚度的技术。离子溅射主要用于深度小于 1 µm 的情况。角度研磨或机械凹坑主要用于深度大于 1 米的量级。用于研究界面的深度分析方法的选择取决于表面粗糙度、界面粗糙度和薄膜厚度 (2)。深度剖面界面宽度可以使用逻辑函数来测量,该函数在实践 E 1636.1.1 中描述。本指南涵盖了俄歇电子能谱中用于深度剖面的程序。
1.2 深度剖析指南如下: 部分 离子溅射 6 角度研磨和横截面 7 机械缩孔 8 网格复制方法 9 无损深度剖析 10 1.3 以 SI 单位表示的值应视为标准。本标准不包含其他计量单位。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题(如果有)。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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