ASTM E986-04(2010)
扫描电子显微镜射束尺寸特征描述标准实施规程

Standard Practice for Scanning Electron Microscope Beam Size Characterization


ASTM E986-04(2010) 中,可能用到以下仪器设备

 

TESCAN Xe等离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

TESCAN Xe等离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)

TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

GAIA3(XMU/XMH) Ga离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

GAIA3(XMU/XMH) Ga离子双束扫描电镜(FIB-SEM)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

Helios 5 EXL DualBeam双束扫描电镜

Helios 5 EXL DualBeam双束扫描电镜

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(XMU/XMH)

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(XMU/XMH)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射定制版扫描电镜(AMU)

TESCAN MIRA3场发射定制版扫描电镜(AMU)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(GMH/GMU)

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(GMH/GMU)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(LMH/LMU)

TESCAN MIRA3场发射扫描电镜(LMH/LMU)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

FEI Quanta x50 FEG场发射环境扫描电镜

FEI Quanta x50 FEG场发射环境扫描电镜

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

场发射扫描电镜 SEM4000

场发射扫描电镜 SEM4000

国仪量子(合肥)技术有限公司

 

FEI Magellan 400L XHR 场发射扫描电镜

FEI Magellan 400L XHR 场发射扫描电镜

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

热场发射扫描电镜—MIRA 3

热场发射扫描电镜—MIRA 3

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

Quanta SEM

Quanta SEM

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

赛默飞(原FEI) Verios XHR SEM

赛默飞(原FEI) Verios XHR SEM

赛默飞电子显微镜(原FEI)

 

TESCAN LYRA3镓等离子双束FIB系统(GM)

TESCAN LYRA3镓等离子双束FIB系统(GM)

TESCAN泰思肯贸易(上海)有限公司

 

蔡司SUPRA™ 55场发射扫描电镜

蔡司SUPRA™ 55场发射扫描电镜

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

蔡司(ZEISS)场发射扫描电镜∑IGMA 300

蔡司(ZEISS)场发射扫描电镜∑IGMA 300

卡尔蔡司(上海)管理有限公司

 

ASTM E986-04(2010)

标准号
ASTM E986-04(2010)
发布
2004年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E986-04(2017)
当前最新
ASTM E986-04(2017)
 
 
引用标准
ASTM E7 ASTM E766
作为第一步,SEM 的传统分辨率测试需要在高放大倍数下拍摄细颗粒样品的显微照片。操作员需要测量显微照片上两个相邻但独立的边缘之间的距离。这些边缘的间距通常小于一毫米。由于具有如此小直径和低电流的光束的信噪比,它们的图像质量通常不是最佳的。操作员的判断取决于测量人员的个人敏锐度,并且可能存在很大差异。使用这种做法可以得到 SEM 电子束尺寸表征,其重现性明显高...

ASTM E986-04(2010)相似标准


推荐

扫描电镜聚焦离子能谱分析SEM,FIB,EDX

,聚焦后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像,此功能与SEM(扫描电子显微镜)相似,或用强电流离子对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工。...

【干货】材料表征仪器知识大汇总

21透射电子显微镜(TEM)穿透式电子显微镜分析时,通常是利用电子成像的绕对比,作成明视野或暗视野影像,并配合绕图样来进行观察。明视野:即是用物镜孔径遮挡绕射电子,仅让直射电子通过成像。     暗视野:则是用物镜孔径遮挡直射电子,仅让绕射电子通过成像。透射电镜基本结构透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。...

【知识】最全材料表征仪器汇总,值得收藏!

22、透射电子显微镜(TEM)穿透式电子显微镜分析时,通常是利用电子成像的绕对比,作成明视野或暗视野影像,并配合绕图样来进行观察。明视野:即是用物镜孔径遮挡绕射电子,仅让直射电子通过成像。暗视野:则是用物镜孔径遮挡直射电子,仅让绕射电子通过成像。透射电镜基本结构透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。...

24种材料表征仪器图文简介!

22、透射电子显微镜(TEM)穿透式电子显微镜分析时,通常是利用电子成像的绕对比,作成明视野或暗视野影像,并配合绕图样来进行观察。明视野:即是用物镜孔径遮挡绕射电子,仅让直射电子通过成像。暗视野:则是用物镜孔径遮挡直射电子,仅让绕射电子通过成像。透射电镜基本结构透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射。...


ASTM E986-04(2010) 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号