ISO 14237:2010
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
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- 标准号
- ISO 14237:2010
- 发布
- 2010年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 14237:2010
- 引用标准
- ISO 17560 ISO 18114
- 本国际标准规定了采用均匀掺杂材料测定单晶硅中硼原子浓度的二次离子质谱方法，该方法由经认证的硼注入参考材料校准。 该方法适用于浓度范围为1×1016原子/cm3至1×1020原子/cm3的均匀掺杂硼。
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