ISO 14237:2010
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
ISO 14237:2010 发布历史
ISO 14237:2010由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2010-07。
ISO 14237:2010 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析,71.040.50 物理化学分析方法。
ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度的最新版本是哪一版？
最新版本是 ISO 14237:2010 。
ISO 14237:2010 发布之时，引用了标准
- ISO 17560 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法*， 2014-09-10 更新
- ISO 18114 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数*， 2021-04-30 更新
* 在 ISO 14237:2010 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。
ISO 14237:2010的历代版本如下：
- 2010年 ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 2000年 ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
本国际标准规定了采用均匀掺杂材料测定单晶硅中硼原子浓度的二次离子质谱方法，该方法由经认证的硼注入参考材料校准。 该方法适用于浓度范围为1×1016原子/cm3至1×1020原子/cm3的均匀掺杂硼。
采用 ISO 14237 的发行版本有：
- AS ISO 14237:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．使用均一的绝缘材料测定硅中的硼原子浓度
- BS ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- KS D ISO 14237-2003(2018) 表面下学分析-二次离子质量分析-硅内均匀添加的硼原子浓度的测量方法
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下学分析-二次离子质谱分析-硅内均匀添加硼原子浓度的测定方法
- KS D ISO 14237:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
- NF ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱分析 使用均匀掺杂材料的硅中硼原子的剂量
- NF X21-070*NF ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
ISO 14237:2010相似标准
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