NF X21-070-2010
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.

Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials.

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标准号

NF X21-070-2010

发布日期

2010年09月01日

实施日期

2010年09月25日

废止日期

无

中国标准分类号

G04

国际标准分类号

71.040.50

发布单位

FR-AFNOR

代替标准

GOST 29104.5-1991(部分代替)