NF X21-070-2010
表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.

Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials.

NF X21-070-2010 发布历史

NF X21-070-2010由法国标准化协会 FR-AFNOR 发布于 2010-09-01，并于 2010-09-25 实施。

NF X21-070-2010 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.50 物理化学分析方法。

NF X21-070-2010的历代版本如下：

• 2010年09月01日 NF X21-070-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.

非常抱歉，我们暂时无法提供预览，您可以试试： 免费下载 NF X21-070-2010 前三页，或者稍后再访问。

注意： 点击下载后，生成下载文件时间比较长，请耐心等待......

标准号

NF X21-070-2010

发布日期

2010年09月01日

实施日期

2010年09月25日

废止日期

无

中国标准分类号

G04

国际标准分类号

71.040.50

发布单位

FR-AFNOR

代替标准

GOST 29104.5-1991(部分代替)