ISO 14997:2011
光学和光学仪器.测定光学元件表面缺陷的试验方法

Optics and photonics - Test methods for surface imperfections of optical elements


ISO 14997:2011 中,可能用到以下仪器

 

光学表面缺陷分析仪

光学表面缺陷分析仪

上海纳腾仪器有限公司

 

Bruker三维光学表面轮廓仪-ContourGT-X3/X8

Bruker三维光学表面轮廓仪-ContourGT-X3/X8

北京亚科晨旭科技有限公司

 

Bruker三维光学表面轮廓仪-ContourGT-K

Bruker三维光学表面轮廓仪-ContourGT-K

北京亚科晨旭科技有限公司

 

sukhamburg光学元件

sukhamburg光学元件

江阴韵翔光电技术有限公司

 

德国徕卡 用于光泽表面的观察 Leica LED5000 CXI

德国徕卡 用于光泽表面的观察 Leica LED5000 CXI

徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

 

可变涡旋波片/Variable spiral plate/Q-PLATE

可变涡旋波片/Variable spiral plate/Q-PLATE

上海昊量光电设备有限公司

 

THz 元器件

THz 元器件

北京先锋泰坦科技有限公司

 

IDS Imaging uEye+ GigE 相机

IDS Imaging uEye+ GigE 相机

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Allied Vision Alvium USB 3.1 相机

Allied Vision Alvium USB 3.1 相机

江阴韵翔光电技术有限公司

 

表面光洁度对照卡

表面光洁度对照卡

江阴韵翔光电技术有限公司

 

经NIST认证的表面光洁度标准

经NIST认证的表面光洁度标准

江阴韵翔光电技术有限公司

 

InGaAs单元探测器

InGaAs单元探测器

江阴韵翔光电技术有限公司

 

IDS Imaging uEye USB 3.0 相机

IDS Imaging uEye USB 3.0 相机

江阴韵翔光电技术有限公司

 

超薄陷波滤光片

超薄陷波滤光片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

OD 6.0 超-薄陷波滤光片

OD 6.0 超-薄陷波滤光片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

OD 4.0 陷波滤光片

OD 4.0 陷波滤光片

江阴韵翔光电技术有限公司

 

Semrock光学元件

Semrock光学元件

江阴韵翔光电技术有限公司

 

表面光洁度

表面光洁度

江阴韵翔光电技术有限公司

 

光学多功能测试仪OMT

光学多功能测试仪OMT

北京先锋泰坦科技有限公司

 

Eta250 Ultra 光学麦克风(10Hz-1MHz)

Eta250 Ultra 光学麦克风(10Hz-1MHz)

上海昊量光电设备有限公司

 

ISO 14997:2011

标准号
ISO 14997:2011
发布
2011年
发布单位
国际标准化组织
替代标准
ISO 14997:2017
当前最新
ISO 14997:2017
 
 
引用标准
ISO 10110-7 ISO 11145
本国际标准确立了实施表面缺陷测量方法的物理原理和实用方法。 该方法评估被缺陷遮挡或影响的表面积。 该方法适用于各种光学元件的原型、小规模或大规模生产。 与特定组件相关的缺陷外观或功能公差可以通过供应商和客户之间的协议来确定。

ISO 14997:2011相似标准


推荐

了解表面质量

适用于表面质量评级规定包括:1、ANSI/OEOSC OP1.002-2009,针对光学电光仪器 – 光学元素组件 – 外观缺陷*2、ISO10110-7:2008,光学光电- 适用于光学元件系统制图 - 第7部分:表面缺陷公差*3、ISO14997:2003;光学光学仪器 - 用于检测光学元件表面缺陷方法4、MIL-PRF-13830B;管理火控仪器光学组件制造、组装检测一般规格...

材料检测设备与技术大全

5、物理吸附仪与材料比表面孔体积物理吸附仪/比表面及孔径分析仪是对多孔粉体材料表面、孔体积、孔分布进行测定分析设备,广泛适用于高校及科研院所材料研究粉体材料生产企业产品质量监控。...

ICP光谱仪“积劳成疾”,你该怎么办?

如果温度变化太大,光学元件受温度变化影响就会产生谱线漂移,造成测定数据不稳定,一般室温要求维持在20~25摄氏度间一个固定温度,温度变化应小于±1摄氏度。而环境湿度过大,光学元件,特别是光栅容易受潮损坏或性能降低。电子系统,尤其是印刷电路板及高压电源上元件容易受潮烧坏。...

光学玻璃技术原理及发展发现解析

它包含以下工艺流程:以钠钙硅玻璃为基片进行切割,精磨边冷加工→对冷加工后钠钙硅玻璃进行化学气相热处理→将钠钙硅玻璃表面进行镀防火保护膜处理→将钠钙硅玻璃表面进行特种物理钢化处理。由缸体及其与之相套合缸盖、与缸盖一体连接反应釜构成专用热分解气化设备。8、发展光学玻璃发展光学仪器发展是密不可分。...


ISO 14997:2011 中可能用到的仪器设备


谁引用了ISO 14997:2011 更多引用





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号