YS/T 819-2012
电子薄膜用高纯铜溅射靶材
High-purity sputtering copper target used in electronic film
YST819-2012, YS819-2012
- 标准号
- YS/T 819-2012
- 别名
- YST819-2012, YS819-2012
- 发布
- 2012年
- 发布单位
- 行业标准-有色金属
- 当前最新
- YS/T 819-2012
- 引用标准
- GB/T 14265 GJB 1580A YS/T 347 YS/T 837
- 适用范围
- 本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材（以下简称高纯铜靶）。
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