找不到引用DIN 51456:2013 半导体技术用材料的试验. 使用电感耦合等离子体质谱法 (ICP-MS) 通过水分析解决方案的多元素测定进行硅晶片的表面分析 的标准
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)可以轻松实现高纯试剂(清洗剂和刻蚀剂)中痕量元素杂质实验室和在线分析、单晶硅锭和晶圆中痕量元素分析、wafer 表面痕量元素分析 及RoHS 指令中铅(Pb)、镉(Cd)、汞(Hg)、六价铬(Cr ( VI ))等重金属元素的测定。而iCAP TQs ICP MS是信誉卓著的iCAP TQ ICP-MS的专用半导体版本。...
珀金埃尔默NexION系列半导体专用ICP-MS,凭借其独特的以动态反应池技术为基础的UCT(通用池)技术,既能实现标准模式、碰撞模式,也可以通过反应模式消除干扰,从根本上成功解决了多原子干扰的技术难题。”晶圆中的金属杂质分析(UCT-ICP-MS)晶圆等半导体材料中的主要成分是硅。高硅基体的样品在传统的冷等离子体条件下分析,其中的耐高温元素硅极易形成氧化物。...
在半导体设备的生产过程中,许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中最重要的是盐酸(HCl),其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量的能力,是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。...
ICP-MS全称是电感耦合等离子体-质谱法(Inductively coupled plasma-Mass Spectrometry)它是一种将ICP技术和质谱结合在一起的分析仪器,它能同时测定几十种痕量无机元素,可进行同位素分析、单元素和多元素分析,以及有机物中金属元素的形态分析。...
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