找不到引用GB/T 14863-2013 用栅控和非栅控二极管的电压电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的方法 的标准
在生产光电单元时,乙硅烷常用于沉积多晶硅薄膜。66. drive-in:推阱,指运用高温过程使杂质在硅片中分布扩散。67. dry etch:干刻,指采用反应气体或电离气体除去硅片某一层次中未受保护区域的混合了物理腐蚀及化学腐蚀的工艺过程。68. effective layer thickness:有效层厚,指在外延片制造中,载流子密度在规定范围内的硅锭前端的深度。69....
这样就使N长基区发射极侧也形成了高浓度载流子积累,在N长基区中形成与GTO中类似的载流子分布,从而较好地解决了大电流、高耐压的矛盾。目前该器件已达到4.5kV/1kA的水平。11.MOS门控晶闸管MOS门极控制晶闸管充分地利用晶闸管良好的通态特性、优良的开通和关断特性,可望具有优良的自关断动态特性、非常低的通态电压降和耐高压,成为将来在电力装置和电力系统中有发展前途的高压大功率器件。...
这些栅极对沟道载流子浓度的调控幅度一般低于 1013/cm2 量级,且调控是易失的。这些弱点促使物理人更愿意去考虑铁电体作为栅极:外加电压对铁电体进行极化或反转极化方向,撤去电压后铁电体依然具有剩余极化,可实现非易失调控沟道层载流子浓度。典型的此类材料包括 Pb(Mg1/3Nb2/3)O3 - PbTiO3 (PMN - PT) 等。...
这种作用与TTL门电路的输入级中T1类似。同理 ,当vI为低电压时,电源电压VDD通过MP以激励M2使M2导通,显然T2基区的存储电荷通过M2而消散。可见,门电路的开关速度可得到改善。2.BiCMOS门电路根据前述的CMOS门电路的结构和工作原理,同样可以用BiCMOS技术实现或非门和与非门。如果要实现或非逻辑关系,输入信号用来驱动并联的N沟道MOSFET,而P沟道MOSFET则彼此串联。...
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