KS C 2150-2008
在高频带(500MHz〜10GHz)的介电常数和介电损耗测量的介电薄膜的方法
Measuring method of dielectric constant and dielectric loss of dielectric thin film at the high frequency ranges(500 MHz∼10 GHz)
KS C 2150-2008 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- KS C 2150-2008
- 发布
- 2008年
- 发布单位
- 韩国科技标准局
- 替代标准
- KS C 2150-2008(2018)
- 当前最新
- KS C 2150-2008(2023)
- 이 표준은 고주파 대역(500 MHz∼10 GHz)에서 유전체 박막의 유전율 및 유전손실의
KS C 2150-2008相似标准
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