GB/T 30701-2014
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surface chemical analysis.Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
GBT30701-2014, GB30701-2014
GB/T 30701-2014 发布历史
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。本标准适用于原子表面密度介于6×10 atoms/cm~5×10 atoms/cm范围的铁和/或镍。
GB/T 30701-2014由国家质检总局 CN-GB 发布于 2014-06-09，并于 2014-12-01 实施。
GB/T 30701-2014 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。
GB/T 30701-2014 采用标准及采用方式
- IDT ISO 17331:2004表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
GB/T 30701-2014 发布之时，引用了标准
- GB/T 6379.2-2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分;确定标准测量方法重复性与再现性的基本方法
- ISO 14644-1:1999 洁净室和相关控制环境 第1部分:空气洁净度分级
- ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
GB/T 30701-2014的历代版本如下：
- 2014年 GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
- 标准号
- GB/T 30701-2014
- 别名
- GBT30701-2014
GB30701-2014 - 发布
- 2014年
- 采用标准
- ISO 17331:2004 IDT
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 30701-2014
- 引用标准
- GB/T 6379.2-2004 ISO 14644-1:1999 ISO 14706:2000