GB/T 30701-2014
表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surface chemical analysis.Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
GB/T 30701-2014 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 30701-2014
- 发布日期
- 2014年06月09日
- 实施日期
- 2014年12月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 发布单位
- CN-GB
- 引用标准
- GB/T 6379.2-2004 ISO 14644-1-1999 ISO 14706-2000
- 适用范围
- 本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。本标准适用于原子表面密度介于6×109 atoms/cm2~5×1011 atoms/cm2范围的铁和/或镍。