SJ/T 11503-2015
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法

Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers


说明:

  • 此图仅显示与当前标准最近的5级引用;
  • 鼠标放置在图上可以看到标题编号;
  • 此图可以通过鼠标滚轮放大或者缩小;
  • 表示标准的节点,可以拖动;
  • 绿色表示标准:SJ/T 11503-2015 , 绿色、红色表示本平台存在此标准,您可以下载或者购买,灰色表示平台不存在此标准;
  • 箭头终点方向的标准引用了起点方向的标准。

SJ/T 11503-2015



标准号
SJ/T 11503-2015
发布日期
2015年04月30日
实施日期
2015年10月01日
废止日期
中国标准分类号
H83
国际标准分类号
29.045
发布单位
CN-SJ
适用范围
本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几纳米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。

SJ/T 11503-2015 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号