SJ/T 11503-2015
碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法

Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers

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标准号: SJ/T 11503-2015
发布日期: 2015年04月30日
实施日期: 2015年10月01日
废止日期: 无
中国标准分类号: H83
国际标准分类号: 29.045
发布单位: CN-SJ

适用范围: 本标准规定了测试碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的方法,包括表面轮廓仪法和原子力显微镜法。本标准适用于碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试。其中,原子力显微镜法仅适用于经过化学机械抛光或光学抛光且表面粗糙度的起伏在零点几纳米至几微米范围内的碳化硅单晶抛光片。

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