YS/T 1025-2015
电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
High-purity tungsten and tungsten alloy sputtering target used in electronic film
YST1025-2015, YS1025-2015
YS/T 1025-2015 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- YS/T 1025-2015
- 别名
- YST1025-2015
YS1025-2015 - 发布
- 2015年
- 发布单位
- 行业标准-有色金属
- 当前最新
- YS/T 1025-2015
- 本标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、订货单(或合同)等内容。 本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。
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