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Halbleitertechnologie

Für die Halbleitertechnologie gibt es insgesamt 40 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Halbleitertechnologie die folgenden Kategorien: Wortschatz, Halbleitermaterial, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Isoliermaterialien, Diskrete Halbleitergeräte, Gleichrichter, Wandler, geregelte Netzteile, Ventil, Elektromechanische Komponenten für elektronische und Telekommunikationsgeräte.


未注明发布机构, Halbleitertechnologie

  • DIN SPEC 1994 E:2016-07 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Anionen in schwachen Säuren
  • DIN 50451-7 E:2017-02 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spuren von Elementen in Flüssigkeiten – Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS
  • DIN 50451-7 E:2017-09 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spuren von Elementen in Flüssigkeiten – Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS
  • DIN 51456 E:2012-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

German Institute for Standardization, Halbleitertechnologie

  • DIN SPEC 1994:2017-02 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Anionen in schwachen Säuren
  • DIN 50441-5:2001 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung der geometrischen Abmessungen von Halbleiterscheiben – Teil 5: Begriffe der Form- und Ebenheitsabweichung
  • DIN 50453-3:2001 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen – Teil 3: Aluminium, gravimetrische Methode
  • DIN 50455-1:2009-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
  • DIN 50455-2:1999-11 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von positiven Fotolacken
  • DIN 50452-1:1995-11 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Prüfverfahren zur Partikelanalyse in Flüssigkeiten – Teil 1: Mikroskopische Bestimmung von Partikeln
  • DIN 50455-1:2009 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Methoden
  • DIN 50453-1:2023-08 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen – Teil 1: Silizium-Einkristalle, gravimetrische Methode
  • DIN 50452-3:1995-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Prüfverfahren zur Partikelanalyse in Flüssigkeiten – Teil 3: Kalibrierung optischer Partikelzähler
  • DIN 50453-2:2023-08 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen – Teil 2: Siliziumdioxid-Beschichtung, optische Methode
  • DIN 50452-2:2009-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Prüfverfahren zur Partikelanalyse in Flüssigkeiten – Teil 2: Bestimmung von Partikeln durch optische Partikelzähler
  • DIN 50451-3:2014-11 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten – Teil 3: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salpetersäure mittels ICP-MS
  • DIN 50451-7:2018-04 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spuren von Elementen in Flüssigkeiten – Teil 7: Bestimmung von 31 Elementen in hochreiner Salzsäure mittels ICP-MS
  • DIN 50451-6:2014-11 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik - Bestimmung von Spuren von Elementen in Flüssigkeiten - Teil 6: Bestimmung von 36 Elementen in einer hochreinen Ammoniumfluoridlösung (NH<(Index)4>F) und in Ätzmischungen aus hochreinem Ammonium. ..
  • DIN 50452-2:2009 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Prüfverfahren zur Partikelanalyse in Flüssigkeiten – Teil 2: Bestimmung von Partikeln durch optische Partikelzähler
  • DIN 50455-2:1999 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Methoden zur Charakterisierung von Fotolacken – Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von positiven Fotolacken
  • DIN 50450-1:1987-08 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Bestimmung von Verunreinigungen in Trägergasen und Dotierungsgasen; Bestimmung der Wasserverunreinigung in Wasserstoff, Sauerstoff, Stickstoff, Argon und Helium mithilfe einer Diphosphorpentoxidzelle
  • DIN 50450-4:1993-09 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Bestimmung von Verunreinigungen in Trägergasen und Dotierstoffgasen; Bestimmung von C<(Index)1> 　——C<(Index)3> 　——Kohlenwasserstoffen in Stickstoff mittels Gaschromatographie
  • DIN 50451-4:2024-01 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spurenelementen in Flüssigkeiten – Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in Reinstwasser mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS) / Hinweis: Ausgabedatum 24.11.2023*Int ...
  • DIN 50450-2:1991-03 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik; Bestimmung von Verunreinigungen in Trägergasen und Dotierungsgasen; Bestimmung der Sauerstoffverunreinigung in N<(Index)2>, Ar, He, Ne und H<(Index)2> durch Verwendung einer galvanischen Zelle
  • DIN 50451-4:2007-02 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spurenelementen in Flüssigkeiten – Teil 4: Bestimmung von 34 Elementen in Reinstwasser mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
  • DIN 51456:2013-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
  • DIN 51456:2013 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
  • DIN 50451-1:2003-04 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spurenelementen in Flüssigkeiten – Teil 1: Silber (Ag), Gold (Au), Calcium (Ca), Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Kalium (K) und Natrium (Na). ) in Salpetersäure durch AAS
  • DIN 50451-2:2003-04 Prüfung von Werkstoffen für die Halbleitertechnik – Bestimmung von Spurenelementen in Flüssigkeiten – Teil 2: Calcium (Ca), Kobalt (Co), Chrom (Cr), Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Nickel (Ni) und Zink (Zn). ) in Flusssäure mit plasmainduziertem Emissionsspektrum...

Defense Logistics Agency, Halbleitertechnologie

Group Standards of the People's Republic of China, Halbleitertechnologie

Jiangxi Provincial Standard of the People's Republic of China, Halbleitertechnologie

  • DB3603/T 4-2022 Technische Spezifikationen für die Herstellung halbleitender Glasuren für Elektroporzellan

RU-GOST R, Halbleitertechnologie

Professional Standard - Railway, Halbleitertechnologie

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Halbleitertechnologie

  • GB/T 15873-1995 Richtlinien für die Ausarbeitung von Schnittstellenspezifikationen für Halbleiteranlagen

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