Verwendung des Ionensputtergeräts

Für die Verwendung des Ionensputtergeräts gibt es insgesamt 37 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Verwendung des Ionensputtergeräts die folgenden Kategorien: Vakuumtechnik, analytische Chemie, Halbleitermaterial, Strahlungsmessung, Wortschatz, Längen- und Winkelmessungen, Abfall, Nichteisenmetalle, Baumaterial, Kernenergietechnik, Umfangreiche elektronische Komponenten.

Professional Standard - Electron, Verwendung des Ionensputtergeräts

SJ 1781-1981 Sputter-Ionenpumpe – Testmethoden

Professional Standard - Machinery, Verwendung des Ionensputtergeräts

JB/T 2965-1992 Leistungstestmethode der Sputter-Ionenpumpe

British Standards Institution (BSI), Verwendung des Ionensputtergeräts

BS ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
BS ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputter-Dept-Profiling unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen dünnen…
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputtertiefenprofilierung mithilfe von Einzel- und…
PD ISO/TR 22335:2007 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Messung der Sputterrate. Mesh-Replica-Methode unter Verwendung eines mechanischen Stiftprofilometers
BS IEC 60692:1999 Nukleare Instrumentierung. Dichtemessgeräte mit ionisierender Strahlung. Definitionen und Testmethoden
BS IEC 60692:2000 Nukleare Instrumentierung – Dichtemessgeräte mit ionisierender Strahlung – Definitionen und Prüfmethoden
BS ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Tiefenprofilierung organischer Materialien durch Argon-Cluster-Sputtern
BS IEC 61336:1996 Nukleare Instrumentierung. Dickenmesssysteme mit ionisierender Strahlung. Definitionen und Testmethoden

International Organization for Standardization (ISO), Verwendung des Ionensputtergeräts

ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
ISO 22415:2019 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Bestimmung des Ausbeutevolumens bei der Argon-Cluster-Sputter-Tiefenprofilierung organischer Materialien
ISO/TR 22335:2007 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Messung der Sputterrate: Mesh-Replica-Methode unter Verwendung eines mechanischen Stiftprofilometers
ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie-Sputtertiefe S

American Society for Testing and Materials (ASTM), Verwendung des Ionensputtergeräts

ASTM E1438-91(2001) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM E1438-91(1996) Standardhandbuch zum Messen von Grenzflächenbreiten bei der Sputter-Tiefenprofilierung mit SIMS
ASTM C110-08 Standardtestmethoden für die physikalische Prüfung von Branntkalk, Kalkhydrat und Kalkstein
ASTM C110-09 Standardtestmethoden für die physikalische Prüfung von Branntkalk, Kalkhydrat und Kalkstein
ASTM C1109-98 Standardtestmethode zur Analyse wässriger Sickerwässer aus nuklearen Abfällen mittels induktiv gekoppelter Plasma-Atom-Emissionsspektrometrie
ASTM E1552-08 Standardtestmethode zur Bestimmung von Hafnium in Zirkonium und Zirkoniumlegierungen mittels Gleichstromplasmax2014; Atomemissionsspektrometrie
ASTM C1109-10(2015) Standardpraxis für die Analyse wässriger Sickerwässer aus nuklearen Abfällen mittels induktiv gekoppelter Plasma-Atom-Emissionsspektroskopie
ASTM D5542-94(1999)e1 Standardtestmethoden für Spurenanionen in hochreinem Wasser durch Ionenchromatographie
ASTM F1467-99(2005)e1 Standardhandbuch für die Verwendung eines Röntgentestgeräts ([ungefähr] 10 keV-Photonen) bei der Prüfung der Auswirkungen ionisierender Strahlung auf Halbleiterbauelemente und Mikroschaltungen
ASTM UOP407-09 Spurenmetalle in organischen Stoffen durch Trockenveraschung – ICP-OES
ASTM E1097-12 Standardhandbuch zur Bestimmung verschiedener Elemente mittels Gleichstrom-Plasma-Atomemissionsspektrometrie
ASTM F1467-11 Standardhandbuch für die Verwendung eines Röntgentesters (x2248; 10 keV Photonen) bei der Prüfung der Auswirkungen ionisierender Strahlung auf Halbleiterbauelemente und Mikroschaltungen

International Electrotechnical Commission (IEC), Verwendung des Ionensputtergeräts

IEC 60181:1964 Verzeichnis der im Zusammenhang mit ionisierender Strahlung verwendeten elektrischen Messgeräte
IEC 60181/AMD1:1967 Verzeichnis der im Zusammenhang mit ionisierender Strahlung verwendeten elektrischen Messgeräte
IEC 61151:1992 Nukleare Instrumentierung; Verstärker und Vorverstärker zur Verwendung mit Detektoren für ionisierende Strahlung; Testverfahren
IEC 60692:1999 Nukleare Instrumentierung – Dichtemessgeräte mit ionisierender Strahlung – Definitionen und Prüfmethoden

German Institute for Standardization, Verwendung des Ionensputtergeräts

DIN IEC 61336:1999 Nukleare Instrumentierung – Dickenmesssysteme unter Verwendung ionisierender Strahlung – Definitionen und Prüfverfahren (IEC 61336:1996)
DIN IEC 61336:1999-05 Nukleare Instrumentierung – Dickenmesssysteme unter Verwendung ionisierender Strahlung – Definitionen und Prüfverfahren (IEC 61336:1996)

Association Francaise de Normalisation, Verwendung des Ionensputtergeräts

FD X21-063*FD ISO/TR 22335:2008 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Messung der Sputterrate: Mesh-Replica-Methode unter Verwendung eines mechanischen Stiftprofilometers
FD ISO/TR 22335:2008 Chemische Analyse von Oberflächen – Tiefenprofilierung – Messung der Sprühgeschwindigkeit: Rasterprägeverfahren mit einem mechanischen Stiftprofilometer

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Verwendung des Ionensputtergeräts

KS F 2587-2010(2020) Standardtestmethode für Chloridionen in Frischbeton unter Verwendung einer chloridionenselektiven Elektrodenmethode

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Verwendung des Ionensputtergeräts

GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen

未注明发布机构, Verwendung des Ionensputtergeräts

BS IEC 61336:1996(1999) Nukleare Instrumentierung – Dickenmesssysteme unter Verwendung ionisierender Strahlung – Definitionen und Prüfmethoden