JB/T 4082-1991由行业标准-机械 CN-JB 发布于 1991-07-22,并于 1992-07-01 实施,于 2012-04-01 废止。
JB/T 4082-1991 在中国标准分类中归属于: J78 真空技术与设备,在国际标准分类中归属于: 23.160 真空技术。
JB/T 4082-1991 溅射离子泵.技术条件 于 2011-12-20 变更为 JB/T 4081-2011 真空技术 溅射离子泵。
本标准规定了普通型式溅射离子泵的技术要求、检验规则、试验方法、包装、贮存等。 本标准适用于JB/T 4081所规定的二级型(L型)和三极型(3L型)的溅射离子泵。
真空特性在真空环境下可以有效防止物质氧化,真空条件下可以制备更纯的表面涂层,高真空环境可以保证粒子长距离的自由移动。电镜行业正是由于真空的这些特性,电子显微镜的电子枪、样品室以及多种电镜制样设备(离子溅射镀膜仪、离子减薄仪等)都需要真空环境。真空获得通常用真空泵对一个封闭空间通过机械、物理或化学的方式进行抽气,从而获得并维持一个真空环境。...
安捷伦真空部门的前身、创建于 1948 年的瓦里安(Varian)在 1957 年发明了第一台溅射离子泵(SIP)。离子泵的发明大大拓展了当时的技术所能达到的真空度,使超高真空成为可能。这台离子泵是一台二极离子泵。二极离子泵二极离子泵的泵壳内装有作为阴极的钛板,和筒状的阳极,两极间的直流高压(一般为几千伏)会使之间的气体分子电离,带正电的离子高速飞向阴极,阴极材料被溅射起来并覆盖到阳极筒上。...
安捷伦发明离子泵 60 周年系列纪念活动启动1957 年,瓦里安发明了溅射离子泵,用于维持微波管的超高真空,以改善其使用寿命和性能。2011 年瓦里安真空部门并入安捷伦,溅射离子泵正式成为安捷伦产品家族重要的一员。安捷伦(原瓦里安)溅射离子泵和 ConFlat 法兰的发明,使科学界进入了超高真空时代,而那时起,安捷伦就包揽了离子泵技术的主要创新。...
2铱靶最新研究表明,使用铱进行溅射,同样也可以获得超精细的薄膜(亚纳米级),比起铬靶镀膜也不相上下。但无论是使用铬靶还是铱靶,都需要配备高真空设备,从而才能进行有效的溅射。3铂靶数据表明,高品质、设计优良的旋片泵磁控离子溅射仪(比如 Quorum K550X),可以使用铂靶制备连续镀膜,晶粒尺寸在 2 nm 左右。铂膜比铬膜有更好的二次电子产率。镀铬的照片有时候看起来会比较亮,对比度过高。...
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