T/ICMTIA 5.3-2020
集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits


T/ICMTIA 5.3-2020 发布历史

T/ICMTIA 5.3-2020由中国团体标准 CN-TUANTI 发布于 2020-12-31，并于 2021-01-05 实施。

T/ICMTIA 5.3-2020在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

T/ICMTIA 5.3-2020的历代版本如下：

 

本文件规定了ArF光刻胶的光刻检测要求及方法、检测标准及包装、运输、存储及环保要求。

标准号
T/ICMTIA 5.3-2020
发布
2020年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/ICMTIA 5.3-2020
 
 

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