上海睿励致力于集成电路生产前道工艺检测,主要产品为光学膜厚测量设备和光学缺陷检测设备,以及硅片厚度及翘曲测量设备等,同时开发了应用在LED领域的检测设备。5、清洗设备:清洗设备为半导体制造的重要设备之一,清洗步骤的约占整体步骤的 1/3。半导体清洗是指针对不同的工艺需求对晶圆表面进行无损伤清洗以去除半导体制造过程中的颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质的工序。...
堵, 塞, 插上, 插栓 n 塞子, 插头, 插销pMOS(p-channel) p沟道MOSpn junction diode pn 结型二极管pnp pnp 型三极管point defect 点缺陷Poisson''s model 泊松模型polarization 极化,偏振polarized light 极化光,偏振光polish 抛光polish rate 抛光速率polished...
安集微电子CMP技术所采用的材料包括抛光液和抛光垫。CMP抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,主要运用于集成电路和超大规模集成电路生产。CMP抛光液对晶硅衬底进行机械抛光,以消除前加工表面损伤沾污、控制诱生二次缺陷和杂质,实现硅片全局平面化。2008年前,我国90%的抛光液需要进口,高端抛光液如8英寸、12 英寸晶圆用抛光液更是 100%的依赖进口。...
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