ASTM E995-04
螺旋电子光谱法和X射线光电光谱法中减去背景技术的标准指南

Standard Guide for Background Subtraction Techniques in Auger Electron Spectroscopy and X-ray Photoelectron Spectroscopy


ASTM E995-04 发布历史

ASTM E995-04由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2004-01-01。

ASTM E995-04 在中国标准分类中归属于: N33 电子光学与其他物理光学仪器。

ASTM E995-04 发布之时,引用了标准

  • ASTM E673 与表面分析相关的标准术语
  • ASTM E996 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程

ASTM E995-04的历代版本如下:

  • 2016年 ASTM E995-16 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
  • 2011年 ASTM E995-11 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南
  • 2004年 ASTM E995-04 螺旋电子光谱法和X射线光电光谱法中减去背景技术的标准指南
  • 1997年 ASTM E995-97 螺旋电子光谱法中基本抽减技术

 

AES 中的背景扣除技术最初被用作增强相对较弱的俄歇信号的方法,以将其与二次和背散射电子的缓慢变化的背景区分开来。对从俄歇峰线形状获取有用信息的兴趣、对俄歇光谱更高定量准确性的关注以及数据收集技术的改进,导致了各种背景扣除技术的发展。同样,XPS 中背景扣除技术的使用主要源于对化学态(结合能值)测定的兴趣、XPS 光谱更高的定量准确性以及数据采集的改进。采集后背景扣除通常应用于 XPS 数据。概述的过程在 XPS 和 AES 中很流行。背景扣除技术的一般评论已发表(1 和 2)。3 1.1 本指南的目的是让分析人员熟悉目前使用的主要背景扣除技术及其在数据采集和操作中的应用性质。1.2本指南旨在适用于电子、X 射线和离子激发俄歇电子能谱 (AES) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 中的背景扣除。

1.3 本标准并不旨在解决所有安全问题,如果有的话,与其使用相关。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

ASTM E995-04

标准号
ASTM E995-04
发布
2004年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E995-11
当前最新
ASTM E995-16
 
 
引用标准
ASTM E673 ASTM E996

推荐


谁引用了ASTM E995-04 更多引用





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