JB/T 8945-2010由行业标准-机械 CN-JB 发布于 2010-02-11,并于 2010-07-01 实施。
JB/T 8945-2010 在中国标准分类中归属于: J78 真空技术与设备,在国际标准分类中归属于: 23.160 真空技术。
JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备的最新版本是哪一版?
最新版本是 JB/T 8945-2010 。
* 在 JB/T 8945-2010 发布之后有更新,请注意新发布标准的变化。
本标准规定了真空溅射镀膜设备的基本参数、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存等。 本标准适用于压力在1×10Pa~1×10pa范围的真空溅射镀膜设备。
超高真空多靶磁控溅射镀膜仪是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器,于2010年2月21日启用。 技术指标 双室磁控溅射系统,极限压力:主溅射室,6.67*10-6Pa,2、永磁靶5套,三个直流电源,两个射频电源,靶材直径60mm;3、6个样品工位,尺寸直径30mm,基片加热最高600度,退火炉最高温度800度。 ...
直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜与基板之间的附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂,需要高压装置。此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。...
1、磁控溅射镀膜设备:应用于信息存储领域,如磁信息存储、磁光信息存储等 2、磁控溅射镀膜机:应用于防护涂层,如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等 3、磁控溅射镀Al膜生产线:应用于太阳能利用领域,如太阳能集热管、太阳能电池等 4、光学镀膜设备:应用于光学薄膜领域,如增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等 5、AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线:应用于信息显示领域,如液晶屏、等离子屏等 ...
离子溅射时常用的气体为惰性气体氩,要求不高时,也可以用空气,气压约为5X10*-2Torr。离子溅射镀膜与真空镀膜相比,其主要优点是:1装置结构简单,使用方便,溅射一次只需几分钟,而真空镀膜则要半个小时以上。2消耗贵金属少,每次仅约几毫克。3对同一种镀膜材料,离子溅射镀膜质量好,能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号