GB/T 28274-2012
硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
Silicon-based MEMS fabrication technology.The basic regulation of layout design
GBT28274-2012, GB28274-2012
说明：
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- 标准号
- GB/T 28274-2012
- 别名
- GBT28274-2012
GB28274-2012 - 发布
- 2012年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 28274-2012
- 引用标准
- GB/T 26111-2010
- 本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。 本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
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