GB/T 28274-2012
硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
Silicon-based MEMS fabrication technology.The basic regulation of layout design
GBT28274-2012, GB28274-2012
GB/T 28274-2012 发布历史
GB/T 28274-2012由国家质检总局 CN-GB 发布于 2012-05-11，并于 2012-12-01 实施。
GB/T 28274-2012 在中国标准分类中归属于: L55 微电路综合，在国际标准分类中归属于: 31.200 集成电路、微电子学。
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则的最新版本是哪一版？
最新版本是 GB/T 28274-2012 。
GB/T 28274-2012 发布之时，引用了标准
- GB/T 26111-2010 微机电系统（MEMS）技术 术语
GB/T 28274-2012的历代版本如下：
- 2012年 GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。 本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
- 标准号
- GB/T 28274-2012
- 别名
- GBT28274-2012
GB28274-2012 - 发布
- 2012年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 28274-2012
- 引用标准
- GB/T 26111-2010
GB/T 28274-2012相似标准
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