JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法

Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

标准号

JC/T 2133-2012

发布日期

2012年12月28日

实施日期

2013年06月01日

废止日期

无

中国标准分类号

Q27

国际标准分类号

71.040

发布单位

CN-JC

引用标准

GB/T 602 GB/T 6682

适用范围

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括：铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。