德国Sentech 经济型反应离子刻蚀机(可升级)Etchlab200 经济型等离子刻蚀设备EtchLab 200 具备低成本效......
产品详情德国Sentech等离子刻蚀机ICP-RIE SI 500 低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，......
德Sentec电感耦合等离子体ICP干法刻机SI 500 商品描述：感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置ICP等离......
德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD 过程的灵活性PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、......
德国 Sentech等离子沉积机 SI 500 D ： 超高密度等离子体SI 500d具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量......
德国Sentech等离子体沉积机PECVD Depolab 200 成本效益 PECVD等离子体沉积工具Depolab 200将平行板等离子......
SENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机 SI 591特别适用于采用氟基和氯基气体的工艺，可以通过预真空室和电脑控制的等离子工艺系......
德国Sentech ALD实时监测仪RTM SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具，是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的......
牛津ICP等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多......
牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开......
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用......
英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 ICP PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开......
牛津Oxford开放式样品载入ALD设备OpAL 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统OpAL提供了专业的热ALD设备......
牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直......
牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直......
牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻......
牛津Oxford原子层刻蚀机 PlasmaPro 100 ALE As layers become thinner to enable t......
德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积（ALD）是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度......
德国Sentech拥有宽光谱范围的光谱椭偏仪SENresearch 4.0新的SENresearch 4.0设计用于光谱椭偏仪，在宽的光谱范围从190nm（深紫......
JED-2300T 能谱仪· JED-2300T AnalysisStation是以“图像观察和分析”为基本理念的TEM/EDS集成系统。......
扫一扫即可访问手机版展台
