原子层沉积系统（ALD）
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Picosun原子层沉积系统（ALD）, 芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV： PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有zl的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，zei大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有zl技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。 PICOSUN™ P-300BV系统代表了zei尖端的工业化ALD工艺水平。这个系统是为半自动化的批量生产而设计。设备本身针对快速批量生产进行了优化，并允许通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。拥有加热选项的真空加载系统可以对敏感的基底进行洁净加工并沉积金属氮化物薄膜。
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