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原子层沉积系统(ALD)
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Picosun原子层沉积系统(ALD), 原子层沉积系统PICOSUN™P300S 介绍: The PICOSUN™ P-300S型原子层沉积系统是一款批量生产型设备,用于加工IC部件,例如:微处理器、存储器、硬盘;并可加工打印读头、传感器和麦克风等各种MEMS器件。PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有专利的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计,确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷,zei大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专利技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效,并已在生产线上得到验证。PICOSUN™ P-300S系统代表了zei尖端的工业化ALD工艺。这个系统是为全自动的批量生产而设计,并与工业标准化的真空集群平台相结合进行单片操作。P-300S系统通过SEMI S2/S8认证,可以通过SECS/GEM整合到自动化生产线上,并能满足半导体行业zei严格的清洁要求。The PICOSUN™ P-300S是IC行业创新驱动企业的首选ALD系统!
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