能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属
典型的硅刻蚀速率,400 ?/min
高达12”的阳极氧化铝RF样品台
极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别
最多支持8个MFC
双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选)
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那诺-马斯特电子束刻蚀, NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,是基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。
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