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电弧等离子体沉积系统

tel: 400-6699-117 1000

ADVANCE RIKO原子层沉积系统(ALD), 电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。

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  系统参数:


 

1. 真空腔尺寸:400X400X300长宽高
2. 抽空系统:分子泵450L/s
3. 电弧等离子体源:标配一个,最多3个
4. 沉积气压:真空或者低气压气体(N2, H2,O2,Ar)
5. 靶材:导电材料,外径10mm,长17mm
6. 靶材电阻率:小于0.01欧姆厘米
7. 电容:360uF  X5 (可选)
8. 脉冲速度:1,2,3,4,5 Pulse/s
9. 操作界面:触摸屏
10. 放电电压:70V-400V (1800uF下最大150V)

 

APD-P 粉末容器:直径95mm 高30mm
形成粉末的速度:13-20cc (随颗粒尺寸和密度变化)
旋转速度:1-50rpm

 




 

 

 



厂家资料

地址:上海市四平路775弄1号1115室

电话:400-6699-117 转 1000

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