电弧等离子体沉积系统_技术特点_分析测试百科网

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电弧等离子体沉积系统

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ADVANCE RIKO原子层沉积系统（ALD）, 电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量，可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。

技术特点

【技术特点】-- 电弧等离子体沉积系统

1. 系统可以通过调节放电电容选择纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。

2. 只要靶材是导电材料，系统就可以将其等离子体化。（电阻率小于0.01ohm.cm）。

3. 改变系统的气氛氛围，可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。

4. 用该系统制备的活性催化剂效果优于湿法制备。

5. Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。

APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱

【技术特点对用户带来的好处】-- 电弧等离子体沉积系统

【典型应用举例】-- 电弧等离子体沉积系统

原子层沉积系统（ALD）

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