ICP-AES 干扰
1． 光谱干扰
ICP-AES的光谱干扰其数量很大而较难解决，有记录的ICP-AES的光谱谱线有50000多条，而且基体能引起相当多的问题。因此，对某些样品例如钢铁、化工产品及岩石的分析必须使用高分辨率的光谱仪。广泛应用于固定通道ICP-AES中的干扰元素校正能得到有限度的成功。ICP-AES中的背景较高，需离线背景校正，应用动态背景校正对增进准确度是很有效的。各种分子粒子（如OH）的谱峰或谱带对某些低含量的被测元素会引起一些分析问题，影响其在实际样品中检出限。
在ICP-MS中的背景是相当低的，典型的是小于5 C/S（计数/秒），这就是ICP-MS具有极好的检出限的一个主要理由。
2． 基体效应
与ICP-MS一样，ICP-AES可以应用内标来解决例如雾化室效应、试样与标准溶液之间粘度差异所带来的基体效应。
3． 电离干扰
仔细选用每个元素的分析条件或加入电离缓衡剂（如过量的I族元素）可以减少易电离元素的影响。
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